ＴＥＭ電子顕微鏡用被膜膜付グリッド各種

支持膜には電子線照射の衝撃と温度上昇による破れや動きが少なく、薄くて不要な電子散乱が少ない事が求められます。　試料の形状、加速電圧、倍率等考慮して、下記の商品より、マイクログリッド（カーボン補強済）、プラスチック支持膜（カーボン補強済）、カーボン支持膜等を選択していただきたく存じます。

支持膜の中で最も汎用的に使われているマイクログリッドを物質・材料研究機構　国際ナノアーキテクトニクス研究拠点WPI-MANA　武井俊朗先生からご提供いただきました。　酸化チタンを低倍率から結晶格子が鮮明に確認できる高倍率の画像です。　多孔質支持膜であるマイクログリッドは、その開口部に橋渡しのできる試料の場合は、支持膜に相当するものが存在しない孔の部分（視野）に張り出した状態にある試料の観察が出来るため、像質劣化の伴わない理想的な試料支持を確保する一つの方法です。

※マイクログリッド以外の支持膜の特徴・用途等下記のテーブルを参考にして下さい。

支持膜の種類	特徴・用途など
コロジオン支持膜	・ニトロセルロースを主成分とするコロジオン膜をベースにしてカーボン補強を施した支持膜です。 ・電子顕微鏡開発初期より使われてきた支持膜です。
フォルムバール支持膜	・ポリビニールフォルマール膜をベースにしてカーボン補強を施した支持膜です。 ・電子線照射耐性や機械的強度が比較的高く扱いやすい支持膜です。
グラッシイフィルム	・非結晶性高分子膜をベースにしてカーボン補強を施した支持膜です。 ・有機溶媒には弱いですが、粒子ノイズが少なく丈夫で使いやすい膜です。 ・使用グリッド素材：Cuのみです。
スライドフィルム	・結晶性高分子膜をベースにしてカーボン補強を施した支持膜です。 ・電子線照射耐性や機械的強度が高く扱いやすい支持膜です。
モノックスコンポ支持膜	・シリコンモノオキサイド（SiO）膜/カーボン膜/プラスチック膜からなる3層構造の支持膜です。 ・弱疎水性表面を持つ支持膜です。 ・使用グリッド素材は：Cu100Pのみとなります。
エラスチックカーボン	・カーボン膜に薄めのプラスチック膜を裏打ちした支持膜です。 ・電子線照射にも機械的に丈夫な扱いやすい支持膜です。
エラスチックウエッティ	・弱親水性プラスチックを素材とした支持膜で、裏面よりカーボン補強を施しています。 ・補強のカーボン膜を厚めに施していますので、チャージアップがありません。 ・親水化処理をしないで、染色が可能です。  ・弱親水性は約3か月保持します。
ハイレゾカーボン支持膜	・マイクログリッドと一体化したカーボン蒸着薄膜です。 ・カーボン蒸着膜厚の異なる3種類の製品があります。 ・ナノ粒子などの観察に適しております。　粒子サイズに応じて最適な厚さのカーボン支持膜を選択ください。
カーボンフィルム	・カーボン単一の蒸着薄膜です。　 ・ナノ粒子やウイルス等の観察に適した支持膜です。　粒子サイズ応じて適切な膜を選択下さい。
ゲルマニウムフィルム	・カーボンに比べ密度が高いですが、薄膜の電子エネルギー損失量は少なく元素分析に適した支持膜です。 ・ナノ粒子等の観察や分析に適した支持膜です。　粒子サイズに応じて適切な膜の厚さを選択ください。
アモルファスシリコン	・カーボンに比較して密度が高いですが、薄膜の 電子エネルギー損失量は少なく元素分析に適した支持膜です。

支持膜に使われている主なSTEM ミクロンピッチグリッドは下記のとおりです。

STEM　Cu75P （340メッシュ相当）	STEM　Cu100P （250メッシュ相当）	STEM　Cu130P （200メッシュ相当）	STEM　Cu150P （170メッシュ相当）	STEM　Cu300P （85メッシュ相当）
STEM　Cu2035 （350μ×200μ）	STEM　Cu3560 （600μ×350μ）	STEM　Mo50P （500メッシュ相当）	STEM　Mo100P （250メッシュ相当）	STEM　Mo150P （170メッシュ相当）

#10-1001　マイクログリッド NS-C15　STEM　Cu150Pグリッド仕様　25枚　 10,000.-円

網目状が綺麗につくられおり、開口率は６０％以上、観察の有効視野が広く取れます。　孔径は約2〜8µm。　微細構造を持つ試料、特に針状（細長い）試料を載せ観察できる良好なマイクログリッドです。　超高分解能観察：　針状・繊維状・微細板・薄膜試料の観察に最適です。 開口率に優れ、カーボン補強が適切な厚さなので、試料観察時に、フレーム部分に重なった試料部分のコントラストの劣化が少なくて済みます。　倍率：低倍〜数十万倍。

この他下記の商品の用意がございます。

#10-9999　マイクログリッドNS-C30　STEM　Cu300Pグリッド仕様	25枚	15,000.-円
#10-9999　マイクログリッドNS-C10　STEM　Cu100Pグリッド仕様	25枚	9,500.-円
#10-9999　マイクログリッドNS-C075　STEM　Cu75Pグリッド仕様	25枚	11,000.-円

#10-1002　マイクログリッド NP-C15　STEM　Cu150Pグリッド仕様　25枚　　9,000.-円

網目状の形状は開口率60%前後、孔経1.0〜8µm。　高分解能観察：　板状試料の観察に最適です。　鏡体の軸調整用試料としても利用できます。　開口率は良くありませんが、観察場所にこだわらない大きな面積のサンプル観察には経済的です。 倍率：低倍〜数十万倍。

この他下記の商品をご用意できます。

#10-9999　マイクログリッドNP-C10　STEM Cu100Pグリッド仕様

25枚

8,500.-円

#10-1027　マイクログリッド NP-M15　STEM　Mo150Pグリッド仕様　25枚　22,000.-円

腹部が広めの網目構造を持つ開口率60%前後のマイクログリッドです。　マイクログリッドサイズはおよそ1〜8μmΦです。　補強のためカーボン蒸着（10〜15nm厚）が施してあります。　STEM　Mo150Pグリッド上に支持されています。　Moグリッドを使用していますので、元素分析に適しています。

#10-1003　マイクログリッド RO-C15　STEM　Cu150Pグリッド仕様　25枚　40,000.-円

ネット状の網目構造を持つ開口率70%程度以上のマイクログリッドです。　マイクログリッドサイズはおよそ2〜8μΦです。　有機溶媒への耐性補強の為カーボン蒸着（厚さ約70nm）が施してありますので、TEM観察時の試料ドリフトが少ない特長を併せ持っています。　真空中において500℃程度耐熱性を有します。

#10-1004　マイクログリッド RT-M10　Mo100Pグリッド仕様　25枚　　50,000.-円

ネット状の網目構造を持つ開口率70%程度以上のマイクログリッドです。　マイクログリッドサイズはおよそ2〜8μΦです。　耐熱性を高めためにSTEMミクロングリッドMo100Pグリッド上に支持されていますので、真空中において1,000℃程度までの試料加熱が可能です。　有機溶媒と高熱への耐性補強のためカーボン蒸着（厚さ約70nm）が施してありますので、TEM観察時の試料ドリフトが少ない特長を併せ持っています。

#10-1005　マイクログリッドRS-G200M Auメッシュ仕様　10枚　42,000.-円

ネット状の網目構造を持つ開口率70%程度以上のマイクログリッドです。　マイクログリッドサイズはおよそ2〜8μΦです。　耐酸性、および耐アルカリ性を高めるために金200メッシュに支持されています。　真空中において700℃程度までの試料加熱が可能です。　薬品と高熱への耐性補強のためカーボン蒸着（厚さ約70nm）が施してありますので、TEM観察時の試料ドリフトが少ない特長を併せ持っています。

#10-1016　マイクログリッドNH-C15　STEM　Cu150Pグリッド仕様　25枚　16,000.-円　（高開口率マイクログリッド)

対象最高倍率20万倍からの製品で、開口率60%以上、孔径2〜8μ、カーボン補強10〜15nm厚のマイクログリッドです。　薄膜状試料、材料切片用、長繊維状/長針状試料、微粒子等に観察に適しています。　

この他下記の商品がご用意できます。

#10-9999 マイクログリッド NH-C30 STEM Cu300Pグリッド仕様	25枚	21,000.-円
#10-9999 マイクログリッド NH-C10　STEM Cu100Pグリッド仕様	25枚	15,000.-円
#10-9999 マイクログリッド NH-C075 STEM Cu75Pグリッド仕様	25枚	16,000.-円
#10-9999 マイクログリッド NH-M15 STEM Mo150Pグリッド仕様	25枚	30,000.-円
#10-9999 マイクログリッド NH-M10　STEM Mo100Pグリッド仕様	25枚	27,000.-円

　　

#10-1017　マイクログリッドNL-C30　STEM　Cu300Pグリッド仕様　　25枚　22,000.-円　（大口径マイクログリッド）

高倍率40万倍までの対象製品で、開口率60%以上、孔径10〜15μ、カーボン補強8〜15nm厚。　生物切片、材料切片用、薄膜状試料及び長繊維状/長針状試料観察に適しています。　又、三次元観察用にも適しています。　

#10-1018 マイクログリッドNL-C2035　STEM　Cu2035グリッド仕様　25枚　22,000.-円　（大口径マイクログリッド）

同じく三次元観察用に開発された支持膜で、60°傾斜時において、視野　175μm（フレーム幅20μを含）×200μm　を確保しております。　20万高倍率商品で、薄膜状試料、長繊維状、長針状、微粒子等の観察に最適です。　V字マークを傾斜軸に合わせてご使用下さい。

#10-1019　マイクログリッドNL-C3560　STEM　Cu3560グリッド仕様　25枚　　23,000.-円　（大口径マイクログリッド）

同じく三次元観察用に開発された支持膜で、60°傾斜時において、視野　300μm（フレーム幅20μを含）×350μm　を確保しております。　20万高倍率商品で、薄膜状試料、長繊維状、長針状、微粒子等の観察に最適です。　V字マークを傾斜軸に合わせてご使用下さい。

プラスチック支持膜　（Plastic　Substrate　カーボン補強済）

※プラスチック支持膜の用途　倍率：低倍〜３万倍位　低・中倍率の観察：　材料系粉体、薄膜状試料観察等、STEM　100Pグリッド仕様はやや高倍率用としてご利用になれます。　いずれも薄膜はおおよそ30nmの支持膜でカーボン補強（厚さ10〜15nm）が施されています。　

#10-1006　コロジオンCOL-C15　STEM　Cu150Pグリッド仕様　25枚　　6,500.-円　

TEM観察試料の支持に利用する普及グレードの硝酸セルロース薄膜（膜厚：30〜40nm）です。　補強のため厚さ10〜15nｍのカーボン蒸着が施してあります。　STEM　Cu150Pグリッド上に支持されています。　加速電圧75〜200ｋVのTEM観察用です。

この他下記の商品を用意できます。

#10-9999コロジオンCOL-C30　STEM Cu300Pグリッド仕様	25枚	10,000.-円
#10-9999コロジオンCOL-C13　STEM Cu130Pグリッド仕様	25枚	6,000.-円

#10-1028　コロジオン COL-M15　STEM　Mo150Pグリッド仕様　25枚　20,000.-円

TEM観察試料の支持に利用する普及グレードの硝酸セルロース薄膜（膜厚：30〜40nm）です。　補強のため厚さ10〜１５nmのカーボン蒸着が施してあります。　STEM　Mo150Pグリッド上に支持されていますので元素分析にも適しています。　加速電圧75〜200kVのTEM観察用です。

#10-1007　コロジオンCOL-C10　STEM　Cu100Pグリッド仕様　25枚　　6,000.-円

TEM観察試料の支持に利用する普及グレードの硝酸セルロース薄膜（膜厚：30〜40nm）です。　補強のため厚さ10〜15nｍのカーボン蒸着が施してあります。　STEM　Cu100Pグリッド上に支持されていますので、Cu150Pグリッドと比較して像ドリフトがより少なく高倍率での観察に適します。　加速電圧75〜200ｋVのTEM観察用です。

この他下記の商品がご用意できます。

#10-1008 フォルムバール PVF-C15　STEM　Cu150Pグリッド仕様　25枚　7,500.-円　

TEM観察試料の支持に利用する普及グレードのポリビニールフォルマール薄膜（膜厚：30〜40nm）です。　補強のための厚さ10〜15nmのカーボン蒸着が施してあります。　STEM　Cu150Pグリッド上に支持されています。　加速電圧75〜200ｋVのTEM観察用です。

この他下記の商品がご用意できます。

#10-1009 フォルムバール PVF-C10　STEM　Cu100Pグリッド仕様　25枚　　7,000.-円　

TEM観察試料の支持に利用する普及グレードのポリビニールフォルマール薄膜（膜厚：30〜40nm）です。　補強のための厚さ10〜15nmのカーボン蒸着が施してあります。　STEM　Cu100Pグリッド上に支持されていますので、Cu150Pグリッドと比較して像ドリフトがより少なく高倍率での観察に適します。　加速電圧75〜200ｋVのTEM観察用です。

この他、下記の商品がご用意できます。

#10-9999　エラスチックウエッティ ELW-C15　STEM　Cu150Pグリッド仕様　25枚　　16,000.-円

弱親水性プラスチック支持膜：

弱親水性プラスチック支持膜（20nm〜30nm厚）+カーボン補強（15〜20nm厚）　TEM観察試料の支持に利用する弱親水性プラスチック薄膜（膜厚20〜30nm）です。　補強のため厚さ15〜20nmのカーボン蒸着が施してあります。　支持膜とグリッドとの密着性を高め、生物試料や高分子材料のネガティブ染色処理を始め、数回以上の液体処理を伴うサンプリングに適した商品です。　膜表面は弱親水性（親水性保持期間は3か月程度です。）を示し、電線照射耐性や電子線透過性に優れた支持膜です。　酸性溶液には高い耐性を持ちますが、有機溶媒への耐性は低い支持膜です。　STEM　Cu100pグリッドに支持されています。　加速電圧75〜200kVのTEM観察用です。

この他下記の商品がご用意できます。

#10-9999 エラスチックウエッティ ELW-C10　STEM Cu100Pグリッド仕様	25枚	14,000.-円
#10-9999 エラスチックウエッティ ELW-C075 STEM Cu75Pグリッド仕様	25枚	16,000.-円
#10-9999 エラスチックウエッティ ELW-M10　STEM Mo100Pグリッド仕様	25枚	25,000.-円
#10-9999 エラスチックウエッティ ELW-T10　STEM Ti100Pグリッド仕様	25枚	32,000.-円

#10-1011　スライドフィルム　TAC-C15　STEM Cu１５０Pグリッド仕様　25枚　7,500.-円

TEM観察用試料の支持に利用する丈夫で使いやすい普及グレードの薄膜です。　トリアセチルセルロース（膜厚：30〜40nm）を主材料として補強のために10〜15nmのカーボン蒸着が施してあります。　加速電圧75〜200kVのTEM観察用です。

この他下記の商品がご用意できます。

#10-9999 スライドフィルム TAC-C30　STEM Cu300Pグリッド仕様	25枚	11,000.-円
#10-9999 スライドフィルム TAC-C10 STEM Cu100Pグリッド仕様	25枚	7,000.-円
#10-9999 スライドフィルム TAC-M15 STEM　Mo150Pグリッド仕様	25枚	22,000.-円
#10-9999 スライドフィルム TAC-M10 STEM　Mo100Pグリッド仕様	25枚	20,000.-円

#10-9999　グラッシイフィルム　GLF-C10　STEM Cu100Pグリッド仕様　25枚　5,500.-円

非結晶性プラスチック支持膜：ポリスチレン支持膜（30〜50nm厚）+カーボン補強(15〜20nm厚）　TEM観察試料の支持に利用するポリスチレン薄膜（膜厚20〜30nm）です。　補強のため厚さ15〜20nmのカーボン補強を施してあります。　非結晶プラスチックであるポリスチレン薄膜は、均一性や粒状性に優れ、平滑でバックグランドノイズが少なく従来のプラスチック支持膜に比べて滑らかな表面を持ちます。　STEM　Cu100Pグリッドに支持されています。　有機溶媒への耐性はありません。　カーボンを厚めにコートした製品ですので、SEM/STEMにも使用できます。　加速電圧75〜200ｋVのTEM観察用です。

#10-9999　モノックスコンポ支持膜　MCP-C10　STEM　Cu100Pグリッド仕様　25枚　14,000.-円

SiO複合支持膜：SiO（〜10nm）+プラスチック薄膜（20〜30nm）の3層構造　カーボン蒸着膜（〜10nm厚）をSiO（膜厚約10nm）とで挟んだ3層構造のTEM観察試料用支持膜です。　中央にカーボン薄膜をサンドイッチした構造の為チャージアップが少なく、生物分野の一般的なTEM観察用として適しています。　表面のSiO薄膜は弱親水性を示します。　STEM　Cu100Pグリッド上に支持されています。　加速電圧75〜200kVのTEM観察用です。

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カーボン支持膜　（Carbon　Substrate)

カーボン支持膜の用途として、一般用は電子線照射量に強く、100kV以上で観察する場合、又有機溶媒懸濁試料等にも強い膜です。　電子線照射、試料構造、ドリフト、有機溶媒懸濁試料等に一番安定している高分解能支持膜です。　特徴をご確認のうえ膜の種類をご選択下さい。

#10-1012　エラスチックカーボン ELS-C10　STEM　Cu100Pグリッド仕様　25枚　　12,000.-円　

電子線透過率がプラスチック支持膜より良いため高倍率に適しております。　電子線照射量に強く100kV以上で観察する場合、試料構造、ドリフト、有機溶媒懸濁試料等、一番安定しているカーボン支持膜です。　対象倍率は10万倍程度。　微粉体針状・繊維・板状試料観察など。

高分子材料膜15〜20nmにカーボン膜厚20〜25nmの構成で酢酸エチル、酢酸イソアミル、エチルアルコール、ブチルアルコール、アセトン、シクロヘキサン等に基本的に不溶解ですが、ベース膜自身が超薄膜ですので、使用する有機溶媒の浸透性、膨張性、乾燥時の表面張力等の作用により使用不適切となる場合がありますので、使用溶媒滴下後乾燥して、その影響を確認してからの使用をお勧めいたします。

この他下記の商品をご用意できます。

#10-9999 エラスチックカーボン ELS-C15 STEM　Cu150Pグリッド仕様	25枚	13,000.-円
#10-9999 エラスチックカーボン ELS-C13 STEM　Cu130Pグリッド仕様	25枚	12,000.-円
#10-9999 エラスチックカーボン ELS-C075 STEM Cu75Pグリッド仕様	25枚	13,000.- 円

#10-1029　エラスチックカーボン　ELS-M15　STEM　Mo１５０Pグリッド仕様　25枚　24,000.-円

多くのTEM観察試料の支持に利用される高普及の標準的支持膜です。　トリアセチルセルロース薄膜（膜厚：20〜30nm）に、電子線への耐性強化のため厚さ15〜20nmのカーボン蒸着が施してあります。　グリッドの孔径が大きいので元素分析には適していますが、使用可能な最高倍率は若干低くなります。　加速電圧100〜300kVのTEM観察用です。

#10-1030　 エラスチックカーボン ELS-M10　STEM　Mo１００Pグリッド仕様　25枚　23,000.-円

多くのTEM観察試料の支持に利用される高普及の標準的支持膜です。　トリアセチルセルロース薄膜（膜厚：20〜30nm）に、電子線への耐性強化のため厚さ15〜20nmのカーボン蒸着が施してあります。　Mo100Pグリッド上に支持されていますので、元素分析用にも適しています。　加速電圧100〜300kVのTEM観察用です。

この他下記の商品がご用意できます。

#10-9999 エラスチックカーボン ELS-M05　STEM Mo50Pグリッド仕様

25枚

36,000.-円

#10-1013　ハイレゾカーボン HRC-C10　STEM　Cu100Pグリッド仕様　25枚　25,000.-円　

マイクログリッドとカーボン蒸着膜を一体化して膜厚15nm以下で製作された支持膜です。　電子線照射に強く、ドリフト量も少ない安定した高分解能観察用支持膜です。　微粒体などの高倍率撮影用に適しております。　30万倍を目安にご使用ください。　微粒体針状・繊維・板状試料観察に最適です。　超薄膜用カーボンを使用しているためFe,Si,Cl等約0.5%含んでおります。　加速電圧100〜300kVのTEM観察用です。

マイクログリッドとカーボン蒸着膜（膜厚15nm以下）を一体化したTEM観察試料用支持膜です。　電子線照射に強く、またドリフト量も少ない安定した高分解能観察用支持膜です。　直接倍率、60万倍程度までの観察にご使用ください。　Mo100Pグリッド上に支持されていますので元素分析用にも適しています。　加速電圧100〜300kVのTEM観察用です。

#10-1014 　ウルトラハイレゾカーボン UHR-C10 STEM　Cu100Pグリッド仕様　25枚　32,000.-円

　マイクログリッドとカーボン蒸着膜を一体化して膜厚10nm以下で製作された支持膜です。　電子線照射に強く、又ドリフト量も少ない安定した超高分解能観察用で、30万倍を超える倍率の試料観察に適しています。　微粒体針状・繊維・板状試料観察に最適です。　超薄膜用カーボンを使用しているためFe,Si,Cl等約1%含んでおります。　加速電圧100〜300kVのTEM観察用です。

#10-1032　ウルトラハイレゾカーボン UHR-M10　STEM　Mo100Pグリッド仕様　25枚　45,000.-円

マイクログリッドとカーボン蒸着膜（膜厚10nm以下）を一体化したTEM観察試料用支持膜です。　電子線照射に強く、またドリフト量も少ない安定した超高分解能観察用支持膜です。　直接倍率、80万倍程度までの観察にご使用ください。　Mo100Pグリッド上に支持されていますので、元素分析用としても適しています。　加速電圧100〜300kVのTEM観察用です。　　　　

#10-1015　スーパーハイレゾカーボン　SHR-C075　STEM　Cu75Pグリッド仕様　25枚　39,000.-円　

マイクログリッドとカーボン蒸着膜を一体化して膜厚7nm以下で製作された支持膜です。　超薄膜ですので電子線強度に気を付けてご使用ください。　上記2種類（ハイレゾ・ウルトラ）の支持膜よりさらに高倍率の観察に適した超高分解能観察用支持膜です。　超薄膜用カーボンを使用しているためFe,Si,Cl等約1%含んでおります。　加速電圧100〜300kVのTEM観察用です。

#10-9999 スーパーハイレゾカーボン　SHR-M05　STEM　Mo50Pグリッド仕様　25枚　51,000.-円

マイクログリッドとカーボン蒸着膜を一体化して膜厚7nm以下で製作された支持膜です。　超薄膜ですので電子線強度に気を付けてご使用ください。　上記2種類（ハイレゾ・ウルトラ）の支持膜よりさらに高倍率の観察に適した超高分解能観察用支持膜です。　超薄膜用カーボンを使用しているためFe,Si,Cl等約1%含んでおります。　加速電圧100〜300kVのTEM観察用です。

#10-9999 ハイパーハイレゾカーボン　HHR-C075　STEM Cu75Pグリッド仕様　25枚　45,000.-円

カーボン膜（約5nm）とマイクログリッドを一体化した複合構造の支持膜です。　5nm程度のナノ粒子の観察に適した高分解能用支持膜です。　超薄膜用カーボンを使用しているためFe,Si,Cl等約1%含んでおります。　加速電圧100〜300kVのTEM観察用です。　超薄膜用カーボンを使用しているためFe,Si,Cl等約1%含んでおります。　加速電圧100〜300kVのTEM観察用です。

#10-9999　ハイパーハイレゾカーボン　HHR-M05　STEM　Mo50Pグリッド仕様　25枚　50,000.-円

カーボン膜（約5nm）とマイクログリッドを一体化した複合構造の支持膜です。　5nm程度のナノ粒子の観察に適した高分解能用支持膜です。　超薄膜用カーボンを使用しているためFe,Si,Cl等約1%含んでおります。　加速電圧100〜300kVのTEM観察用です。　超薄膜用カーボンを使用しているためFe,Si,Cl等約1%含んでおります。　加速電圧100〜300kVのTEM観察用です。

#10-1022　カーボン C10-M05　STEM　Mo50Pグリッド仕様　10枚　 50,000.-円　（カーボン10支持膜）

高純度カーボンを膜厚8〜13nmとなるように蒸着して成膜したTEM観察用用支持膜です。　高純度カーボン材料を使用していますので、元素分析の目的に最適です。　電子線照射に強く、またドリフト量も少ない安定した高分解能観察用支持膜です。　あらゆる有機溶媒に安定しており真空中において1,000℃程度までの試料加熱が可能です。　加速電圧75〜300kVのTEM観察用です。

この他下記の商品がご用意できます。

#10-9999 カーボン C10-C075 STEM Cu75Pグリッド仕様

10枚

30,000.-円

#10-1023　カーボン C20-C10　STEM　Cu１００Pグリッド仕様　10枚　25,000.-円　（カーボン20支持膜)　

高純度カーボンを膜厚15〜20nmとなるように蒸着して成膜したTEM観察試料用支持膜です。　高純度カーボン材料を使用していますので元素分析の目的に最適です。　電子線照射に強く、またドリフト量も少ない安定した高分解能観察用支持膜です。　あらゆる有機溶媒に安定しており真空中において500℃程度までの試料加熱が可能です。　加速電圧75〜300kVのTEM観察用です。

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#10-1024　ゲルマニウム G10-M05　STEM　Mo50Pグリッド仕様　10枚　34,500.-円　（ゲルマニウム10支持膜）　

高純度ゲルマニウムを膜厚8〜13nmとなるように蒸着して成膜したTEMTEM観察試料用支持膜です。　電子線照射に強く、またドリフト量の少ない安定した高分解能観察用支持膜です。　高純度ゲルマニウム材料を使用していますので元素分析の目的にも適しています。　あるゆる有機溶媒に安定しており真空中において700℃程度までの試料加熱が可能です。　加速電圧75〜300kVのTEM観察用です。

この他下記の商品がご用意できます。

#10-1025　ゲルマニウム G20-C10　STEM　Cu100Pグリッド仕様　10枚　23,000.-円　（ゲルマニウム20支持膜）

高純度ゲルマニウムを膜厚15〜20nmとなるように蒸着して成膜したTEM観察試料用支持膜です。　電子線照射に強く、またドリフト量の少ない安定した高分解能観察用支持膜です。　高純度ゲルマニウム材料を使用していますので元素分析の目的にも適しています。　あらゆる有機溶媒に安定しており真空中において500℃程度までの試料加熱が可能です。　加速電圧75〜300kVのTEM観察用です。

#10-9999 アモルファスシリコン支持膜　S10-C075　STEM　Cu75グリッド仕様　10枚　55,000.-円　（シリコン単膜支持膜）

アモルファスシリコン単層膜（膜厚8〜13nm）　高純度シリコンを膜厚8〜12nmとなるように蒸着して成膜したTEM観察用支持膜です。　非弾性散乱面積が小さいため、色収差の影響が少なくシャープな画像が得られます。　高分解能観察・EDSやEELSを用いた元素分析にも適します。　STEM　Cu75Pグリッド上に支持されています。　真空中において500℃程度までの試料加熱が可能です。　加速電圧75〜300kVのTEM観察用です。

各支持膜の出荷形態は1〜10番の方向に、支持膜が載っている表面となります。　又表側表面の確認は左端に●印、上側に三角の切り込みの状態が確認出来た状態が表側となっております。

#10-9999　TEM電子顕微鏡用グラフェン支持膜 Graphenea Suspended Monolayer Graphene Film on TEM Grid Substrate

単層グラフェンは、CVDによって成長し、Quantifoil　TEMグリッド上に転送されます。　グラフェンの炭素結合距離は約0.142nm。　1原子の厚さのsp²結合炭素原子のシートで、炭素原子とその結合からできた蜂の巣のような六角形格子構造を持っています。　物理的強度に強く、カーボン支持膜より薄く導電性のある支持膜です。　結晶質の支持膜ですが、信号形成への寄与は比較的小さく、高分解能イメージング・ナノ粒子・コントラストの低い材料のイメージングに適しています。

物質・材料研究機構　国際ナノアーキテクトニクス研究拠点WPI-MANA　武井俊朗先生ご提供です	物質・材料研究機構　国際ナノアーキテクトニクス研究拠点WPI-MANA　深田直樹先生からの試料ご提供です。

Growth Method	CVD Synthesis
Transfer Method	Clean transfer method
Quality Control	Optical Microscopy & Raman Checked
Size	2 mm(TEM grid diameter)
	Transparent
Transparencey	>97%
Coverage	>95%
Number of graphene layers	1
Thickness(theoretical)	0.345 nm
FET Electron Mobility on Al203	2,000 cm2/V.s
FET Electron Mobility on SiO2/Si(expected)	4,000 cm2/V.s
Sheet Resistance	170 Ohms/sq.
Grain size	up to 10 μm

SEM　Image	TEM　Image	Raman	グラフェンの分子構造モデル

Substrate TEM Grid 4 packs.　65,000.-円

Type	QUANTIFOIL R2/4
Hole size	2　μm
Space between holes	4　μm
Diameter	3 mm
Coating	Au coated

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