応研商事株式会社 新着情報（新発売商品の紹介）
【新発売商品】 FIB（集束イオンビーム装置）用特殊メッシュ FIB用切欠メッシュ、FIB用グリッド、FIB用特殊メッシュと様々呼び名があります。 試料接地面が3μ厚で製作されたミクロブリッジメッシュ・表面特殊加工したフラットなミクロンサンプルメッシュが発売となりました。
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本体と試料接地面が3μの薄膜を一体化して製作されたミクロブリッジメッシュの画像です。 
名称 （試料セットのイメージで数字はμm単位です。） カタログ番号 材質 枚数 価格 
G-0312 Cu 10 \42,000.- G-0313 Ni 10 \42,000.- 
G-0322 Cu 10 \48.000.- G-0323 Ni 10 \45,600.- 
G-0332 Cu 10 \48,000.- G-0333 Ni 10 \45,600.- 
G-0342 Cu 10 \48,000.- G-0343 Ni 10 \45,600.- 
G-0352 Cu 10 \48,000.- G-0353 Ni 10 \45,600.- 名称 （試料セットのイメージで数字はμm単位です。） カタログ番号 材質 枚数 価格 
G-101 Mo 10 \24,000.- G-102 Cu 10 \24,000.- G-103 Ni 10 \24,000.- G-104 Ti 10 \24,000.- G-105 W 10 \30,000.- G-106 Ag 10 \24,000.- 
G-110 Mo 10 \30,000.- G-111 Cu 10 \30,000.- G-112 Ni 10 \30,000.- 
G121 Cu 10 \42,000.- G122 Ni 10 \36,000.- 
G-130 Mo 10 \36,000.- G-131 Cu 10 \36,000.- G-132 Ni 10 \36,000.- G-133 Ti 10 \36,000.- G-134 W 10 \42,000.- 
G-140 Mo 10 \24,000.- G-141 Cu 10 \24,000.- G-142 Ni 10 \24,000.- G-143 Ti 10 \24,000.- G-144 W 10 \30,000.- 
G-180 Mo 10 \42,000.- G-181 Cu 10 \42,000.- G-182 Ni 10 \42,000.- 
G-160 Mo 10 \30,000.- G-161 Cu 10 \28,800.- G-162 Ni 10 \27,600.- 
G-170 Cu 10 \42,000.- G-171 Ni 10 \40,800.- 
G-180 Mo 70 \30,000.-
【新発売商品】 FIBグリッド保存ケース【概要】●半月タイプや3mmφのTEM/STEM観察用FIB試料グリッドを保存するための収納ケースです。 本体、蓋、クリップで構成されます。 本体に掘られたポケット内にグリッドを個別に格納することが出来ます。●20ポケットの製品は、確実なグリッドホールディングと容易なピックアップを可能にするために、ポケット内に低粘着マットを敷きました。●80ポケットの製品（マット無し）は、ポケット深さが浅い（0.6mm）ためグリッド出し入れ操作が容易です。
カタログ番号 全体外寸(mm)
（L×W×H）ポケット数
サイズ(mm）
L×W×H低粘着マットタイプ
（色・厚さ）販売単位
（価格）#11-1501 56×51×11mm 20ポケット
(10×5.5×1.5)シリコーン
（緑色、0.3mm）2個セット
\6,500.-#11-1502 56×51×11mm 20ポケット
（10×5.5×1.5）導電シリコーン
（黒色、1mm)2個セット
\7,000.-#11-1503 56×51×11mm 80ポケット
4.4×3.6×0.6無し 3個セット
\5,000.-
#11-1501(左）#11-1502（中）#11-1503（右） #11-1502：クリップ/本体/蓋 グリッド保持状態 
【特徴】●本体と蓋には帯電防止ABS樹脂が使われています。●シリコーンタイプと導電シリコーンタイプの低粘着マットを用意いたしました。●低粘着マットはFIBで加工した試料を支持したグリッドを安全・確実に保持します。
『新発売商品』#10-9999 TEM電子顕微鏡用グラフェン支持膜 4枚 1組 参考価格\59,000.-（ご相談ください。）
単層グラフェンは、CVDによって成長し、Quantifoil TEMグリッド上に転送されます。 グラフェンの炭素結合距離は約0.142nm。 1原子の厚さのsp²結合炭素原子のシートで、炭素原子とその結合からできた蜂の巣のような六角形格子構造を持っています。 物理的強度に強く、カーボン支持膜より薄く導電性のある支持膜です。 結晶質の支持膜ですが、信号形成への寄与は比較的小さく、高分解能イメージング・ナノ粒子・コントラストの低い材料のイメージングに適しています。
| Growth Method | CVD Synthesis |
| Transfer Method | Clean transfer method |
| Quality Control | Optical Microscopy & Raman Checked |
| Size | 2 mm(TEM grid diameter) |
| Appearance(Color) | Transparent |
| Transparencey | >97% |
| Coverage | >95% |
| Number of graphene layers | 1 |
| Thickness(theoretical) | 0.345 nm |
| FET Electron Mobility on Al203 | 2,000 cm2/V.s |
| FET Electron Mobility on SiO2/Si(expected) | 4,000 cm2/V.s |
| Sheet Resistance | 170 Ohms/sq. |
| Grain size | up to 10 μm |
SEM Image TEM Image Raman グラフェンの分子構造モデル
下記6点の画像は国立研究開発法人 物質・材料研究機構 国際ナノアーキテクトニクス研究拠点（WPI-MANA) 武井俊朗先生のご厚意によりご提供頂きました。 グラフェン支持膜に金単結晶（金粒子）を載せた画像です。
グラフェン支持膜の構造はグリッドの上に支持膜フィルムを張りホールとなっている箇所にグラフェン支持膜が存在しています。
Quantifoil R2/4 グリッド 支持膜フィルム 
グラフェン支持膜の輪郭 グラフェン支持膜の拡大写真
下記4点の画像も国立研究開発法人 物質・材料研究機構 国際ナノアーキテクトニクス研究拠点（WPI-MANA) 武井俊朗先生のご厚意により提供頂きました。 グラフェン支持膜にシリコンナノワイヤーを載せた観察像です。 尚、試料のご提供は同じく物質・材料研究機構 国際ナノアーキテクトニクス研究拠点（WPI-MANA) 深田直樹先生からのご厚意です。
